机译:基板温度对纯氩溅射高(100)取向LaNiO_(3-δ)薄膜的微观结构和传输性能的影响
School of Materials Science and Engineering, Beijing University of Aeronautics and Astronautics, Xue Yuan Lu Road, 37#, Hai Dian district, Beijing 100083, China;
A1. Crystal structure; A3. Physical vapor deposition processes; B1. Perovskites; B1. Oxides; B1. Rare earth compounds;
机译:直接观察氧空位及其对Si衬底上溅射LaNiO_(3-δ)薄膜的微观结构,电子和传输性能的影响
机译:衬底温度对反应溅射沉积高取向氧化锌薄膜的生长方式,微观结构和光学性能的影响
机译:SiO_2 / Si基体上溶胶-凝胶衍生的高度(100)取向的氧化镧镧镍薄膜的微观结构和传输性能
机译:通过RF磁控溅射和光学性质,高度(H00)在Si(100)基板上的SRTIO_3薄膜的增长
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:衬底温度对反应溅射沉积高取向氧化锌薄膜的生长方式,微观结构和光学性能的影响