机译:对于埋在SiO_2层中的Si纳米粒子,存储的电荷和隧穿电压对SiO_2隧穿厚度的依赖性
Nano Device Research Center, Korea Institute of Science and Technology, Seoul, 136-791, Korea;
A1. nanostructures; B1. nanomaterials; B2. semiconducting silicon;
机译:基于SiO_2隧穿和HfO_2阻挡层的Au纳米晶体中的电荷存储非易失性低压存储晶体管
机译:SiO_2隧穿和Si_3N_4 / HfO_2俘获层是通过低温工艺在全栅无结电荷俘获闪存器件上形成的
机译:在纳米级观察到的经过处理的MOS非易失性存储器件的隧道SiO_2层中的陷获电荷和应力感应泄漏电流(SILC)
机译:充电效应对SiO
机译:参见关于SiO_2中陷阱俘获电子的研究统计
机译:出版商更正:嵌入纳米粒子的对称和不对称磁性隧道结:尺寸分布和温度对隧穿磁阻和自旋传递扭矩的影响
机译:使用HFO 2 sub>纳米粒子作为电荷俘获层和超薄隧道厚度的性能