机译:使用三-二甲基氨基锑通过金属有机分子束外延生长的InGaAsSb薄膜中的碳还原和锑掺入
NTT Photonics Laboratories, NTT Corporation, 3-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa 243-0198, Japan;
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A3. Metalorganic molecular beam epitaxy; B1. Antimonides; B2. Semiconducting Ⅲ-V materials; B2. Semiconducting quarternary alloys;
机译:金属有机分子束外延在氧化物缓冲层上生长的氮化铟膜的光致发光研究
机译:退火对金属有机分子束外延生长HfO_2薄膜性能的影响
机译:金属有机分子束外延生长HfO_2薄膜的纳米化学和电学性质的相关性
机译:锑增强原子氮辅助分子束外延生长到GaInNAs薄膜中的均质氮
机译:分子束外延生长外延汞碲化镉薄膜中砷的掺入和P型掺杂的研究。
机译:分子束外延生长的分子束外延和GaAsBi / GaAs量子阱的性质:热退火的影响
机译:氨流速对反应分子束外延生长掺Si的GaN外延膜杂质掺入和材料性能的影响