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【24h】

Diffusion of acceptors in n-type and semi-insulating InP

机译:n型和半绝缘InP中受体的扩散

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摘要

When acceptors diffuse into an n-type semiconductor, both the surface concentration and the diffusion depth of the diffusant are influenced by the initial donor concentration. Similar interaction is observed between shallow acceptors and deep acceptors. Previous work describing the diffusion of zinc during MOCVD growth of InP is reviewed and compared to the diffusion of both zinc and cadmium into InP from the vapour phase. Interdiffusion between iron- and zinc-doped MOCVD layers is also considered. It is shown that these experiments can all be explained by a simple model involving Fermi level effects.
机译:当受体扩散到n型半导体中时,扩散剂的表面浓度和扩散深度都受初始施主浓度的影响。在浅受体和深受体之间观察到类似的相互作用。回顾了先前描述InP的MOCVD生长过程中锌扩散的工作,并将其与锌和镉从气相扩散到InP中进行了比较。还考虑了铁和锌掺杂的MOCVD层之间的相互扩散。结果表明,所有这些实验都可以通过涉及费米能级效应的简单模型来解释。

著录项

  • 来源
    《Journal of Crystal Growth》 |2000年第4期|p.123-129|共7页
  • 作者

    Brian Tuck;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 晶体学;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:29:17

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