机译:用于室温操作的2.26μm(A1GaIn)(AsSb)二极管激光器的生长和层结构优化
A3.Molecular beam epitaxy; B1.Antimonides; B2.Semiconducting III-V materials;
机译:低阈值大功率室温连续波工作二极管激光发射的2.26μm
机译:在InGaP带偏移减少层上生长的CdZnSe / ZnSe MQW结构的蓝绿色激光二极管操作
机译:使用高温生长的单晶AlN缓冲层在蓝宝石衬底上制造的GaN基蓝紫色激光二极管的室温CW操作
机译:2.26μm(almain)(ASB)二极管激光器的生长和层结构优化用于室温操作
机译:开发用于可见光激光器和发光二极管的宽带隙II-VI材料。 A. ZnMgCdSe结构的双极掺杂和电致发光。 B.六角形ZnSe基结构
机译:电注入II型(GaIn)As / Ga(AsSb)/(GaIn)As W型量子阱激光器的高温工作发射出1.3 µm量子阱激光器
机译:具有优化的多量子阱有源层的1.5μm垂直腔面发射激光器的低阈值,室温脉冲操作
机译:埋地条纹双异质结构GaInasp / Inp二极管激光器的室温cw操作。