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Bombardment of Tungsten with 20‐keV Helium Atoms in a Field Ion Microscope

机译:离子显微镜在20keV氦原子轰击钨的过程

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摘要

Fast He atoms are shot into one side of the tungsten emitter tip of a field ion microscope, and the resulting damage to the surface, consisting of vacancies, interstitials, and their clusters, is observed in atomic resolution. About one‐half of the number of atoms calculated to have received a displacement energy of 50 eV in the interior appear as surface defects. The surface integrates the damage by focusing collisions coming from as deep as 1000 Å. Stress enhanced mobility of subsurface interstitials is detectable at 21°K, and rapid thermal diffusion from the depth occurs at 90°K.
机译:快速He原子被射入场离子显微镜的钨发射极尖端的一侧,并以原子分辨率观察到对表面造成的损伤,包括空位,间隙和它们的簇。计算得出的在内部接收到50 eV位移能量的原子数量的大约一半表现为表面缺陷。通过聚焦来自1000Å深处的碰撞,表面可以整合损坏。在21°K时,可以检测到地下间隙的应力增强的迁移率,并且在90°K时发生了从深度开始的快速热扩散。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1964年第4期|共6页
  • 作者

    Sinha M. K.; Muller E. W.;

  • 作者单位

    The Pennsylvania State University, University Park, Pennsylvania;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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