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【24h】

Hall‐Effect Levels Produced in Te‐Doped GaAs Crystals by Cu Diffusion

机译:铜扩散在Te掺杂的GaAs晶体中产生的霍尔效应能级

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摘要

Hall‐effect measurements have been made on Te‐doped GaAs crystals diffused with known amounts of 64Cu sufficient to convert the crystals to p‐type. Energy levels are found above the valence band at 0.123±0.005 eV, 0.145±0.005 eV, 0.166±0.005 eV, 0.19±0.005 eV, and 0.43±0.01 eV. An analysis of the Hall data has been made by means of computer programs. The results may be summarized as follows: (1) Ga vacancies produced during the Cu diffusion associate with and neutralize Te as a compensating center. (2) The ionization energy of the TeCuGa pair is 0.19 eV rather than 0.166 eV as suggested previously.
机译:对掺有已知量的64 Cu的Te掺杂的GaAs晶体进行了霍尔效应测量,足以将晶体转换为p型。在价带上方发现能级为0.123±0.005 eV,0.145±0.005 eV,0.166±0.005 eV,0.19±0.005 eV和0.43±0.01 eV。霍尔数据已通过计算机程序进行了分析。结果可以概括如下:(1)在Cu扩散过程中产生的Ga空位与Te作为补偿中心相关并中和Te。 (2)TeCuGa对的电离能为0.19 eV,而不是先前建议的0.166 eV。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |1967年第7期| 共7页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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  • 正文语种 eng
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