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【24h】

Low‐Temperature Orientation of Silicon Films Deposited by Sputtering through a Moving Mask

机译:通过移动掩模溅射沉积的硅膜的低温取向

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  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |1968年第4期| 共2页
  • 作者

    Clark A. H.; Alibozek R. G.;

  • 作者单位

    Research and Development Laboratories, Sprague Electric Company, North Adams, Massachusetts;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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