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【24h】

Conductance Extrema in Metal—Insulator—Semiconductor Tunnel Junctions

机译:金属-绝缘体-半导体隧道结中的电导极值

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摘要

The conductance in metal—insulator—degenerate semiconductor tunnel junctions is obtained and analyzed. Regions of various shapes of the conductance are determined by use of two reduced parameters. For relatively light degeneracy and high barrier, a conductance minimum occurs at the Fermi energy. Otherwise, a minimum may occur at a voltage equal to or smaller than the Fermi energy and an additional pair of extrema may exist, depending on the type of the semiconductor and the nature of the insulator band edges in providing the tunneling barrier.
机译:获得并分析了金属-绝缘体-退化的半导体隧道结中的电导。通过使用两个简化的参数来确定各种形状的电导区域。对于相对较小的简并和高势垒,费米能量处的电导最小。否则,取决于半导体的类型和提供隧道势垒时绝缘体带边缘的性质,在等于或小于费米能量的电压处可能出现最小值,并且可能存在另一对极端。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |1968年第3期| 共3页
  • 作者

    Chang L. L.;

  • 作者单位

    IBM Watson Research Center, Yorktown Heights, New York;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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