机译:电子轰击在0.2-2.8 MeV能量范围内的Be,Sn和Au目标产生的厚目标Bre致辐射
机译:用0.5至2.8 MeV电子在较厚的铝和铁靶中产生stra致辐射
机译:0.5-1.44-MeV电子在铁和金靶中产生的通过致辐射铁板传输的能谱
机译:单能低能电子产生的厚靶致辐射的Z依赖性
机译:由10-keV和20-Kev电子产生的Bremsstrahlung的角度分布在厚的Au靶标
机译:在CMS检测器中搜索在13 TEV的质子 - 质子碰撞中产生的两种位移摩尔,以及用帕德米检测器的500 MeV产生的电子正电子固定目标碰撞中产生的深色光子
机译:放射治疗能量下厚靶标致stra的蒙特卡罗模拟的基准测试
机译:厚壁bre致辐射的角分布 初始能量范围从10到20-keV的电子入射到ag上
机译:在入射电子能量为0.2,1.0,2.0和2.8 meV的厚靶中产生电子bre致辐射,第3部分