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Secondary‐electron‐escape probabilities

机译:二次电子逃逸概率

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摘要

The probability B that a secondary electron internally excited in an insulator escapes upon reaching the surface is extracted from experiment and discussed theoretically for the first time. It is shown that B=2.5δmϵ/E0m, where ϵ is the electron‐hole‐pair creation energy and δm and E0m are the maximum secondary yield and the primary energy of maximum yield, respectively. It is also shown that ϵ=2.8Eg, where Eg is the insulator band gap. Values of B are extracted from secondary‐electron‐emission data for many semiconductors. A simple theory relating B to χ/Eg, the ratio of the electron affinity and the band gap is developed and shown to define an upper bound for the experimental data. The free‐particle approximation adequately describes these hot‐ (energies ≳1 eV) electron phenomena.
机译:从实验中提取绝缘子内部激发的二次电子到达表面时逸出的概率B,并首次进行理论讨论。结果表明,B = 2.5δmϵ / E0m,其中ϵ是电子-空穴对产生能,δm和E0m分别是最大次级产量和最大产量一次能量。还显示ϵ = 2.8Eg,其中Eg是绝缘体带隙。 B的值是从许多半导体的二次电子发射数据中提取的。建立了一个将B与χ/ Eg,电子亲和力和带隙之比相关的简单理论,并证明该理论确定了实验数据的上限。自由粒子近似足以描述这些热(能量≳1eV)电子现象。

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  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |1978年第6期| P.3476-3480| 共5页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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