机译:反应离子束腐蚀导致钨在硅中诱导的界面态
机译:聚焦电子束诱导的氯气对硅的蚀刻:残留气体污染对蚀刻工艺的负面影响
机译:通过局部聚焦离子束注入和深反应离子刻蚀在硅基板上制备高纵横比的纳米通道
机译:通过质子束写入和反应离子刻蚀制备的全硅亚波长结构着色
机译:使用反应离子束刻蚀和化学辅助反应离子束刻蚀对GaN进行干法刻蚀
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:生物模板与中性束刻蚀相结合制造的三维硅量子点超晶格中高光电流的产生
机译:通过气体辅助聚焦 - 氦离子光束诱导的蚀刻钨丁二酮蛋白化图案化和纳米波纹
机译:用于器件应用的溅射碳化硅和钨薄膜的反应离子蚀刻