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机译:使用电荷校正X射线光电子能谱对HfO2 / SiO2 / Si叠层进行完整的带偏移表征
机译:使用电荷校正的X射线光电子能谱对HfO_2 / SiO_2 / Si叠层进行完整的带偏移表征
机译:内部光发射和电荷校正的X射线光电子能谱确定GeO
机译:内部光发射和电荷校正的X射线光电子能谱确定了GeO_2 / Ge界面处的导带偏移
机译:硬X射线光电子能谱研究导带偏移对SiO_2 / 4H-SiC(000-1)击穿电压的影响
机译:用X射线光电子能谱研究了表面化学,混合价,电荷转移和表征。
机译:TiO2(Ti)/ SiO2 / Si叠层内部结构的软X射线反射法硬X射线光电子能谱和透射电子显微镜研究
机译:发行商注意事项:“用于副0.1μm互补金属氧化物半导体栅极氧化物堆叠的”HFO2 / SiO2接口的热稳定性:软X射线光电子能谱“的价带和定量核心水平研究”J。苹果。物理。 96,6362(2004)