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机译:GaN上的无定形和结晶原子层沉积Al_2O_3中电流传导的空间电荷控制场排放分析
Research Organization for Nano and Life Innovation Waseda University 513 Waseda-tsurumaki Shinjuku Tokyo 162-0041 Japan Institute of Materials and Systems for Sustainability (Tokyo Branch) Nagoya University Bldg. 120-5 (Waseda University) 513 Waseda-tsurumaki Shinjuku Tokyo 162-0041 Japan;
Faculty of Science and Engineering Waseda University 3-4-1 Okubo Shinjuku Tokyo 169-8555 Japan;
Research Organization for Nano and Life Innovation Waseda University 513 Waseda-tsurumaki Shinjuku Tokyo 162-0041 Japan Faculty of Science and Engineering Waseda University 3-4-1 Okubo Shinjuku Tokyo 169-8555 Japan The Kagami Memorial Laboratory for Materials Science and Technology Waseda University 2-8-26 Nishiwaseda Shinjuku Tokyo 169-0051 Japan;
机译:Al_2O_3薄膜的电流传导的空间电荷控制场发射模型
机译:金属绝缘体 - 半导体电容器电流传导的动态空间电荷控制场发射模型
机译:4H碳化硅上原子层沉积Al_2O_3栅极的电流传导机理分析
机译:使用原子层沉积的AL_2O_3作为栅极电介质的反转通道GaN MOSFET
机译:来自碳纳米管的电子的场发射:发射机理,电流稳定性和电流饱和效应。
机译:CuO纳米线的最大场发射电流密度:使用与缺陷相关的半导体场发射模型和原位测量的理论研究
机译:吸附吡啶衍生物和超薄原子层沉积氧化铝涂层对TiO2导电带缘能量的影响及氧化还原梭 - 衍生的黑色电流