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机译:等离子体活化N-2 / O-2和N2O / O-2混合物用于化学气相沉积法合成ZnO:N的比较
Colorado Sch Mines, Dept Chem Engn, Golden, CO 80401 USA;
P-TYPE ZNO; OPTICAL-EMISSION SPECTROSCOPY; NITROGEN GLOW-DISCHARGE; MOLECULAR-BEAM EPITAXY; THIN-FILMS; ATOMIC OXYGEN; ELECTRON-IMPACT; CODOPING METHOD; KINETICS; GROWTH;
机译:ZnO /(Hf,Zr)O-2 / ZnO三层纳米线电容器结构,仅通过金属有机化学气相沉积制备
机译:氟掺杂对使用等离子增强化学气相沉积系统由TEOS / O-2 / CF4混合物制备的SiOxFy膜的影响
机译:化学气相沉积和水热合成法生长ZnO纳米线的比较
机译:合成方法对LINI-(1/3)MN-(1/3)CO-(1/3)O-2电化学特性的影响研究
机译:I.金属有机化学气相沉积前体的合成及其在氧化物薄膜沉积中的用途II。单体钽(IV)酰胺配合物的合成。
机译:等离子体增强化学气相沉积系统合成高c轴ZnO薄膜及其紫外光探测器的应用
机译:TiCl4 / O-2 / N-2混合气体中的电介质阻挡放电等离子体辅助化学气相沉积钛膜。