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【2h】

Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition of Titanium Oxide Films by Dielectric Barrier Discharge in TiCl4/O-2/N-2 Gas Mixtures

机译：TiCl4 / O-2 / N-2混合气体中的电介质阻挡放电等离子体辅助化学气相沉积钛膜。

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National Natural Science Foundation of China [10875025, 20803007]; Fundamental Research Funds for Central Universities of China [DC12010116, DC13010106]; Program for Liaoning Excellent Talents in University [LJQ20l3128]

机译：国家自然科学基金[10875025，20803007];中国中央大学基础研究基金[DC12010116，DC13010106]；辽宁大学优秀人才培养计划[LJQ20l3128]

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作者
Niu Jinhai; Zhang Zhihui; Fan Hongyu; Yang Qi; Liu Dongping; Qiu Jieshan; 刘东平;
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作者单位

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年度 2014
总页数
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正文语种 en_US
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