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机译:通过碳注入的闪光灯退火过程中,SiC-on-Si结构的过程控制和熔体深度均匀化
机译:闪光灯照射下Si结构上SiC中SiC熔化深度的均质化
机译:通过离子注入和闪光灯退火产生的重掺杂镓的锗层:结构和电激活
机译:通过离子注入和闪光灯退火产生的重掺杂镓的锗层:结构和电激活
机译:闪光灯退火技术在烃分子离子注入区非晶层的再结晶行为
机译:用于闪光灯退火多晶硅TFT的自对准CMOS工艺的开发
机译:离子注入和闪光灯退火掺杂的锗中的电子浓度极限
机译:通过离子注入和闪光灯退火掺杂Ge的电子浓度极限
机译:用热辅助非相干光闪光退火硼注入硅