...
机译:超薄非晶硅层,用于应变松弛Si_(0.75)Ge_(0.25)合金层的生长
机译:H介导的(Si_(14)/ Ge_1)_(20)超晶格缓冲液用于生长具有低残留应变的Si_(0.75)Ge_(0.25)合金层
机译:氢注入的Si_(0.75)Ge_(0.25)/ B掺杂的Si_(0.70)Ge_(0.30)/ Si异质结构中Si_(0.75)Ge_(0.25)的应变弛豫
机译:具有Au中间层的非晶Si / Si_(0.75)Ge_(0.25)多层薄膜的低导热性
机译:用于高质量Si_(0.75)Ge_(0.25)合金层生长的短周期(Si_(14)/ Si_(0.75)Ge_(0.25))_(20)超晶格
机译:GeSxSe1-x(x = 0,0.25,0.5,0.75,1)单晶的生长和表征。
机译:由(CeO2)0.95(Y2O3)0.05作为固体电解质层和(CeO2)0.75(ZrO2)0.25作为密集扩散阻挡层组成的极限电流氧传感器
机译:使用各种类型的缓冲层生长高质量si_ <0.75> Ge_ <0.25>合金层