机译:等离子增强化学气相沉积法沉积原硅酸四乙酯基氧化硅膜的低温直接键合机理
CEA LETI Minatec Campus, 17 avenue des martyrs, 38054 Grenoble Cedex, France;
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机译:等离子增强化学气相沉积法沉积原硅酸四乙酯基氧化硅膜的低温直接键合机理
机译:正硅酸乙酯在400℃下沉积的正硅酸乙酯基等离子增强化学气相沉积氧化膜的性能和电学表征
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