机译:通过消除热退火氢化非晶硅膜的应力来降低成核速率
National Renewable Energy Laboratory, Golden, Colorado 80401, USA;
National Renewable Energy Laboratory, Golden, Colorado 80401, USA;
National Renewable Energy Laboratory, Golden, Colorado 80401, USA;
机译:发行人注:“通过消除热退火的氢化非晶硅膜的应力来降低成核速率” [J.应用物理113,173509(2013)]
机译:出版者注:“通过消除热退火的氢化非晶硅膜的应力来降低成核速率” [J.应用物理113,173509(2013)]
机译:通过激光加工改变热退火氢化非晶硅的形核
机译:(掺杂和未掺杂)氢化非晶硅膜的微观结构的退火效果
机译:氢化非晶硅薄膜的形核和生长的表面研究。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:用快速热退火法研究反应性蒸发的无定形氢化硅和非晶氢化锗及非晶态锗的再结晶。
机译:无定形氢化碳(a-C:H)薄膜的快速热退火