机译:通过金属有机化学气相沉积法生长的ZnMgO外延层中浅施主的性质
Department of Science and Technology (ITN), Linkoeping University, SE-60174 Norrkoeping, Sweden;
Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoeping University, SE-581 83 Linkoeping, Sweden;
Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoeping University, SE-581 83 Linkoeping, Sweden;
机译:通过金属有机化学气相沉积法生长的ZnMgO外延层中浅施主的性质
机译:V-Pits对金属化学气相沉积生长的GaN癫痫仪性能的影响
机译:通过金属有机化学气相沉积法生长的窄带隙(0.3-0.48 eV)A〜3B〜5固溶外延层的性质
机译:通过金属有机化学气相沉积法生长的InSb(N)外延层的性能
机译:金属化学气相沉积种植的氮化镓外膜中的极性控制
机译:通过金属有机化学气相沉积在氮化蓝宝石上生长的高质量AlN外延层
机译:通过金属有机化学气相沉积法生长的ZnMgO外延层中浅施主的性质