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Study and characterization of the irreversible transformation of electrically stressed planar Ti/TiO_x/Ti junctions

机译:电应力平面Ti / TiO_x / Ti结不可逆转变的研究与表征

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摘要

We investigate the properties and characteristics of planar Ti/TiO_x/Ti junctions, which consist of transverse TiO_x lines drawn on Ti test patterns. Junctions are elaborated by means of local anodic oxidation using atomic force microscopy. An irreversible morphological transformation occurring in a reproducible manner is observed when these planar junctions are electrically stressed under ambient atmosphere. Structural and chemical analyses based on transmission electron microscopy techniques reveal the extension of the initial amorphous TiO_x into a crystalline rutile phase. This irreversible transformation is proven to vanish completely if the electrical stress occurs under vacuum atmosphere. Finally, we carry out temperature dependent electrical measurements in order to elucidate their conduction mechanism: Schottky emission above an ultra-low potential barrier is assumed to dominate under vacuum atmosphere whereas ionic conduction seems to prevail in air.
机译:我们研究了平面Ti / TiO_x / Ti结的特性和特征,这些结由在Ti测试图案上绘制的横向TiO_x线组成。通过使用原子力显微镜的局部阳极氧化来详细构造结。当这些平面结在环境大气中受到电应力作用时,观察到以可再现的方式发生的不可逆的形态转变。基于透射电子显微镜技术的结构和化学分析表明,初始无定形TiO_x扩展为晶体金红石相。如果在真空气氛下发生电应力,则这种不可逆的转变将被完全消除。最后,我们进行与温度有关的电测量,以阐明其传导机理:在真空环境下,超低势垒上方的肖特基发射占主导地位,而离子传导似乎在空气中占主导地位。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |2015年第14期|144502.1-144502.6|共6页
  • 作者单位

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

    Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL UMR 5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne F-69621, France;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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