机译:阐明4H-SiC干热氧化过程中界面区域形成的机理
PGMICRO, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, 91509-900 Porto Alegre, RS, Brazil;
Instituto de Fisica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, 91509-900 Porto Alegre, RS, Brazil;
PGMICRO, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, 91509-900 Porto Alegre, RS, Brazil,Instituto de Quimica, Universidade Federal do Rio Grande do Sul, 91509-900 Porto Alegre, RS, Brazil;
机译:在4H-SiC上生长的热氮化物和干栅氧化物中的传导机理
机译:通过过氧化氢热处理改善SiO_2 / 4H-SiC界面区域
机译:干O_2氧化和H_2O氧化的红外光谱表征在4H-SiC上生长的热氧化物在SiO_2中近界面应变的差异
机译:通过过氧化氢热处理改善SiO_2 / 4H-SiC界面区域
机译:氮化硅中过渡金属氧化物的形成机理及其对钢干滑动接触的影响
机译:氨化热处理石墨烯中石墨氮掺杂的形成机理
机译:热生长参数对siO2 / 4H-siC界面区域的影响
机译:液体包裹晶体生长中热驱动界面流动的不稳定机制