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机译:H_2和D_2等离子体对钙质材料功函数的影响
AG Experimentelle Plasmaphysik, Universität Augsburg, Augsburg, Germany;
AG Experimentelle Plasmaphysik, Universität Augsburg, Augsburg, Germany,Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, Boltzmannstr. 2, Garching, Germany;
机译:H-2和D-2等离子体对碱基化材料工作功能的影响
机译:源气比对a-C:H和a-C:D膜中氢和氘含量的影响:带有CH_4 / H_2,CH_4 / D_2,CD_4 / H_2和CD_4 / D_2的等离子体增强CVD
机译:He,He / Ar,He / Xe / H_2和He / Xe / D_2低温余辉等离子体中的非麦克斯韦电子能量分布函数
机译:H_2和D_2等离子体中负离离子产生的无CS的材料效率
机译:通过等离子改性和等离子沉积技术增强的表面功能,以创建更具生物学相关性的材料。
机译:电子给体和受体对联乙炔功能化有机材料(DFOM)非线性光学响应的影响:密度泛函理论计算
机译:H 2 sub>和D 2 sub>等离子体对铯材料功函数的影响