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Hillocks, Pits, and Etch Rate in Germanium Crystals

机译:锗晶体中的小丘,凹坑和蚀刻速率

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摘要

Symmetric faceted etch hillocks have been observed on certain germanium surface orientations exposed to an H2O2HF (Superoxol) etchant. Considerations of surface curvature and etch rate lead to the conclusion that the faces bounding the hillocks must be at saddle points on an etch rate vs orientation surface. A measurement of etch rate throughout the stereographic triangle has supported this conclusion. The formation of dislocation pits and hillocks is discussed in terms of the variation of surface etch rate with orientation.
机译:在暴露于H2O2 = HF(Superoxol)蚀刻剂的某些锗表面取向上,观察到对称的刻面蚀刻小丘。考虑到表面曲率和蚀刻速率,得出的结论是,包围小丘的面必须在蚀刻速率与定向表面上的鞍点处。对整个立体三角形的蚀刻速率的测量支持了这一结论。根据表面蚀刻速率随取向的变化,讨论了位错坑和小丘的形成。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |1957年第11期| 共6页
  • 作者

    Batterman Boris W.;

  • 作者单位

    Bell Telephone Laboratories, Inc., Murray Hill, New Jersey;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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