机译:催化化学气相沉积中钨丝喷砂处理提高沉积速率
Industrial Research Institute of Ishikawa (IRII), 1-2 Kuratsuki, Kanazawa, Ishikawa 920-8203, Japan;
catalytic chemical vapor deposition; hot-wire chemical vapor deposition; sandblasting; tungsten wire; catalyzer; surface morphology; high-rate deposition;
机译:纯CH {sub} 4沉积方法结合离子束辅助沉积和等离子增强化学气相沉积,改善了碳膜覆盖的不锈钢和碳化钨基底的磨损
机译:1,3-二硅环丁烷催化化学气相沉积中钨丝和钽丝的结构变化
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:在细长钨丝上的化学气相沉积金刚石膜的均匀沉积
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:可扩展合成少数层2D钨丁烯烯(2h-wse2)纳米胸底直接在钨(w)箔上生长使用环境压力化学气相沉积来反转锂离子贮存
机译:钨丝的老化及其对热丝化学气相沉积中丝表面动力学的影响