机译:嵌入式随机存取存储器应用中k电介质直接隧穿浮栅存储器的性能
IMEC Leuven, SPOT Division, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
embedded-RAM (e-RAM); direct tunneling current; direct tunneling-RAM (DT-RAM); medium-κ dielectrics; SiON; hafnium silicate; trap-assisted tunneling current;
机译:PMMA隧穿介电层的多孔结构对非易失性浮栅有机场效应晶体管存储器件性能的影响
机译:一种隧道介电层自由浮栅非易失性存储器,采用I型核 - 壳量子点作为离散电荷捕获/隧道中心
机译:隧道层和栅间介电TaN浮栅存储器的研究
机译:具有工程隧道介电层和高K(Al2O3)多晶硅介电层的可扩展浮栅闪存单元
机译:用于浮栅非易失性存储器应用的高级隧道电介质。
机译:基于单个纳米粒子的纳米浮栅存储器中的隧道电导率切换
机译:碳纳米管作为浮栅存储应用中电荷存储节点的存储效应