机译:结合界面粗糙度和随机掺杂的栅极泄漏波动的三维统计仿真
Department of Electronics and Electrical Engineering, University of Glasgow, Rankine Building, G12 8LT, United Kingdom;
gate leakage fluctuations; direct tunnelling; random dopant; interface roughness; oxide thickness variation; 3D modelling and simulation; MOSFET;
机译:在存在随机离散掺杂剂和随机界面陷阱的情况下,16nm栅极高k /金属栅极MOSFET的物理和电气特性波动的统计设备仿真
机译:由于界面粗糙度和随机掺杂剂共同作用,Si纳米线MOSFET的可变性:完整的三维NEGF模拟研究
机译:随机掺杂波动和线边缘粗糙度下阈值变化的统计建模和仿真
机译:Si /high-к氧化物界面处的界面陷阱和16-nm-Gate CMOS器件中的随机掺杂物引起的电特性波动的3D模拟
机译:对纳米级三栅MOSFET中的随机掺杂剂波动效应进行建模。
机译:随机离散掺杂剂引起的具有固定顶鳍宽度的16nm栅极梯形体FinFET器件的电特性波动
机译:掺杂量波动与线边缘粗糙度阈值变化的统计建模与仿真