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Room-Temperature Carbon Nanotube Single-Electron Transistors Fabricated Using Defect-Induced Plasma Process

机译:使用缺陷诱导等离子体工艺制造的室温碳纳米管单电子晶体管

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摘要

We propose and demonstrate the "defect-induced plasma process" for the fabrication of the room-temperature-operated carbon nanotube single-electron transistors (CNT-SETs) with the SiO_2 protection films on the CNT channels. After introducing of defects in
机译:我们提出并演示了“缺陷诱导等离子体工艺”,用于制造在CNT通道上具有SiO_2保护膜的室温操作碳纳米管单电子晶体管(CNT-SET)。引入缺陷后

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