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机译:Ga掺杂的直拉硅晶体的受主浓度,电导率和电阻率随温度的变化
Institute for Material Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
Institute for Material Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
Faculty of Engineering, Shinshu University, 4-17-1 Wakasato, Nagano 380-8553, Japan;
Institute for Material Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
Institute for Material Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
机译:溅射沉积Ga掺杂ZnO薄膜的电阻率和透射率与氧分压和溅射温度的关系
机译:溅射沉积Ga掺杂ZnO薄膜的电阻率和透射率与氧分压和溅射温度的关系
机译:Al掺杂的p型4H-SiC外延层中受主能级和空穴迁移率对受主密度和温度的影响
机译:在GA掺杂ZnO薄膜中对供体和受体浓度的退火的影响
机译:温度传感器的β和SiC的电导率和迁移率与温度的关系
机译:Zr-Fe-Ni金属化玻璃电阻率的正负温度依赖性
机译:在散装GaN和间隙中电子移动性的温度,受体浓度和供体浓度依赖性
机译:p型硅中电阻率和空穴电导率的温度依赖性。