机译:粉末质量控制作为改善气溶胶沉积法制备(Ba_0.6,Sr_0.4)TiO_3厚膜介电性能的方法
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-2-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-8564, Japan;
rnNational Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-2-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-8564, Japan;
机译:介质BI1.5ZN1.0NB1.5O7厚膜浓度储能性能沉积法制备柔性金属箔基材上的厚膜
机译:气溶胶沉积法制备BaTiO_3薄膜介电性能的厚度依赖性
机译:气溶胶沉积法制备MgTiO_3厚膜的微结构和介电性能
机译:气溶胶沉积法制造的厚PZT膜/不锈钢执行器:疲劳性能
机译:通过沉积方法和膜厚控制和设计PECVD碳掺杂低k二氧化硅薄膜的关键性能。
机译:聚合物力学性能对气溶胶沉积制备的陶瓷-聚合物复合厚膜的影响
机译:PZT(20/80)/ PZT(80/20)通过丝网印刷方法制备的异细化厚膜的介电性能