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机译:碱性pH值对单晶硅和多晶硅抛光和蚀刻的影响
Department of Materials Engineering, Hanyang University, Ansan, Gyeonggi 426-791, Korea;
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机译:通过电偏流金属辅助化学蚀刻(EMaCE)对单晶硅和多晶硅进行高速,高纵横比,高均匀性和3D复杂性的深度蚀刻
机译:9用于抛光单晶碳化硅的新型金刚石浆料,金刚石盘和催化剂蚀刻机械抛光方法的开发
机译:碱性溶液中的硅各向异性刻蚀IV有机和无机试剂对硅各向异性刻蚀工艺的影响
机译:碱性浆料中单晶硅和多晶硅的去除机理
机译:检查由磁性增强的多晶硅和二氧化硅的反应性离子蚀刻产生的电气和结构损坏。
机译:通过使用自掩膜蚀刻技术在晶圆表面形成纳米级金字塔提高多晶硅晶圆太阳能电池效率
机译:采用纳米级加工和碱蚀刻的组合技术微晶硅的微制造。