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机译:通过极端紫外光刻的化学放大抗蚀剂工艺制造低于10纳米半节距的可行性研究:I.通过概率密度模型预测的潜像质量
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan;
EUVL Infrastructure Development Center, Inc. (EIDEC), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, Japan;
EUVL Infrastructure Development Center, Inc. (EIDEC), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, Japan;
机译:极紫外光刻化学放大光刻胶工艺制备亚10纳米半节距的可行性研究:Ⅱ。随机效应
机译:通过酸扩散常数和/或可光分解的淬灭剂浓度,在使用极紫外光刻技术制造11 nm半间距线间距图形中,进行抗蚀剂图像质量控制
机译:从极紫外光刻技术的化学放大抗蚀剂的线宽和边缘粗糙度的剂量-间距矩阵重建潜像
机译:化学放大的聚(4-羟基苯乙烯-甲基丙烯酸叔丁酯)抗蚀剂(用于极端紫外光刻的高性能模型抗蚀剂)引起的随机现象的研究
机译:对于极端紫外线光刻的负色调化学放大的分子抗蚀剂平台朝向11nm半间距分辨率