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机译:使用负载阻抗监控系统监控量产等离子体蚀刻工艺中的内壁状况
Natl Inst Adv Ind Sci & Technol, Measurement Solut Res Ctr, Tosu, Saga 8410052, Japan;
ADVANTEST Corp, ASD Test & Measurement Syst Business Grp, Ora, Gunma 3700718, Japan;
ADVANTEST Corp, ASD Test & Measurement Syst Business Grp, Ora, Gunma 3700718, Japan;
Tohoku Univ, Dept Elect Engn, Sendai, Miyagi 9808579, Japan;
Natl Inst Adv Ind Sci & Technol, Measurement Solut Res Ctr, Tosu, Saga 8410052, Japan;
机译:用实际的负载阻抗监测方法监测等离子刻蚀中沉积膜形成颗粒的状况
机译:实时特性阻抗监控,可用于等离子体蚀刻工艺中的终点和异常检测
机译:通过等离子体阻抗监测确定SiO_2 / Si体系的SF_6反应离子刻蚀终点
机译:使用负载阻抗监测系统的用于在大规模生产的等离子蚀刻工艺中监测沉积膜引起颗粒的方法
机译:腔室壁条件对等离子体蚀刻工艺的影响。
机译:从蠕变视图下热负荷条件下低压电磁线圈中使用的绝缘系统的降解监测
机译:用于监测纳米材料处理等离子体中电子条件的移频探头的研究