机译:R-θ电子束光刻和纳米压印在石英基板上的纳米孔和点图案化工艺
HOYA Corp, Blanks Div, Yamanashi 4088550, Japan;
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机译:使用电子束光刻和化学放大的抗蚀剂工艺制造7纳米四分之一间距的线和间隔图案的理论研究:III。石英基板上的曝光后烘烤
机译:GaAs纳米结构的选择性生长和随后的InAs量子点在纳米压印光刻图案化的SiO_2 / GaAs衬底上的引导自组装
机译:在可光固化的纳米压印光刻图案化的GaAs衬底上生长的高光学质量InAs位置控制量子点
机译:用电子束光刻(EBL)和ICP-RIE工艺的石英基板微结构制造的研究
机译:使用软纳米压印光刻技术制造量子点光电子学的途径。
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:用电子束光刻制造线路图案的制造特性和辊模上的点图案
机译:纳米级磁电子器件平行构图的纳米压印光刻技术