机译:化学机械平面化过程中金属腐蚀的电化学研究
Hitachi Chem Co Ltd, Hitachi, Ibaraki 3178555, Japan;
Hitachi Chem Co Ltd, Hitachi, Ibaraki 3178555, Japan;
Hitachi Chem Co Ltd, Hitachi, Ibaraki 3178555, Japan;
机译:电化学机械平坦化和化学机械平坦化对两步抛光工艺的影响
机译:Ta和Cu的化学机械平面化抛光浆料中Ta / Cu接触区的电化学阻抗特性:电蚀的考虑
机译:钽的一般腐蚀和点蚀引起的伏安电流振荡:对电化学-机械平面化的影响
机译:电化学铜金属化-平面化工艺在0.25μ以下特征中的应用
机译:用于化学机械和电化学机械平面化的水溶液中铜,钽和氮化钽表面的电化学研究。
机译:某些染料作为酸性钢中低碳钢的缓蚀剂的吸附和缓蚀研究:重量电化学量子化学研究以及与碘离子的协同作用
机译:金属化学机械平面化中的污染和电偶腐蚀