机译:脉冲激光烧蚀制备5 mol%氧化g掺杂二氧化铈薄膜的微观结构研究
Department of Physics Anna University Chennai 600 025 India;
Department of Physics Anna University Chennai 600 025 India;
Materials Characterization Group Indira Gandhi Centre for Atomic Research Kalpakkam 603 102 India;
Materials Characterization Group Indira Gandhi Centre for Atomic Research Kalpakkam 603 102 India;
Materials Characterization Group Indira Gandhi Centre for Atomic Research Kalpakkam 603 102 India;
Materials Characterization Group Indira Gandhi Centre for Atomic Research Kalpakkam 603 102 India;
Microstructure; Doped ceria; Laser ablation;
机译:脉冲激光烧蚀制备5 mol%氧化g掺杂二氧化铈薄膜的微观结构研究
机译:脉冲激光烧蚀制备的5 mol%氧化do掺杂二氧化铈薄膜的微观结构研究
机译:脉冲激光烧蚀制备5 mol%氧化ado掺杂二氧化铈薄膜的微观结构研究
机译:脉冲激光沉积技术制备的Ca和La掺杂CoO薄膜的微观结构研究
机译:使用皮秒激光脉冲对铝薄膜进行激光诱导的反烧蚀。
机译:通过单脉冲激光沉积工艺制备Y2O3掺杂氧化锆/氧化G二氧化铈双层电解质薄膜SOFC的SOFC电池。
机译:通过脉冲激光沉积外延生长原子级扁平氧化钆掺杂的二氧化铈薄膜
机译:脉冲激光沉积制备mg2si薄膜的电化学研究