机译:在不同氦气压力下通过脉冲激光沉积制备的Pd / Mg / Pd薄膜:结构和电化学氢化性能
INRS-Energie, Materiaux et Telecommunications, 1650 boulevard Lionel Boulet, Varennes (Quebec) J3X 1S2, Canada;
INRS-Energie, Materiaux et Telecommunications, 1650 boulevard Lionel Boulet, Varennes (Quebec) J3X 1S2, Canada;
metal hydride; magnesium; palladium; thin film; pulsed laser deposition; hydrogen electrosorption;
机译:脉冲激光沉积法制备Pd / Mg 1-x sub> Al x sub> / Pd薄膜的结构和电化学储氢性能
机译:脉冲激光沉积法制备Pd / Mg_(1-x)Al_x / Pd薄膜的结构和电化学储氢性能
机译:脉冲激光沉积法制备Pd / Mg_(1-x)Al_x / Pd薄膜的结构和电化学储氢性能
机译:在各种氧气部分压力下通过脉冲激光沉积制备的Pt(111)/ Ti / SiO_2 / Si衬底上BifeO_3薄膜的结构和性质
机译:脉冲激光沉积合成铁镍纳米粒子和薄膜的磁性和结构。
机译:脉冲激光沉积制备6H-SiC(0001)衬底上VO2薄膜的增强的相变特性
机译:撤回:不同的单晶衬底对脉冲激光沉积(PLD)法制备的Y0.225Sr0.775CoO3薄膜的结构,光学性质和介电结果的影响
机译:脉冲激光沉积制备mg2si薄膜的电化学研究