机译:一步反应等离子体溅射沉积MgH_2薄膜
CNRS, Inst NEEL, F-38042 Grenoble, France,Univ. Grenoble Alpes, Inst NEEL, F-38042 Grenoble, Trance,LPSC, Universite Grenoble-Alpes, CNRS/IN2P3, 53 rue des Martyrs, 38026 Grenoble Cedex, France;
LPSC, Universite Grenoble-Alpes, CNRS/IN2P3, 53 rue des Martyrs, 38026 Grenoble Cedex, France;
CNRS, Inst NEEL, F-38042 Grenoble, France,Univ. Grenoble Alpes, Inst NEEL, F-38042 Grenoble, Trance;
LPSC, Universite Grenoble-Alpes, CNRS/IN2P3, 53 rue des Martyrs, 38026 Grenoble Cedex, France;
LPSC, Universite Grenoble-Alpes, CNRS/IN2P3, 53 rue des Martyrs, 38026 Grenoble Cedex, France;
CNRS, Inst NEEL, F-38042 Grenoble, France,Univ. Grenoble Alpes, Inst NEEL, F-38042 Grenoble, Trance,Harvard University, School of Engineering and Applied Science, 02139 Cambridge, MA, USA;
Thin films; Magnesium hydride; Hydrogen storage; Plasma assisted reactive sputtering;
机译:溅射沉积Zn前驱体膜厚和退火时间对金属靶顺序反应溅射沉积Cu2ZnSnS4薄膜性能的影响
机译:等离子体发射光谱及其与反应磁控溅射沉积的氮化硅薄膜折射率的关系
机译:反应磁控溅射沉积在等离子体活化腹肌中CrN薄膜的性质
机译:等离子体辅助脉冲反应磁控溅射沉积ZrO_2薄膜的性能
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:反应磁控溅射沉积TiO2薄膜的光催化性能的途径
机译:支持“通过远程等离子反应溅射沉积具有不同Sn组成的ZnO:Sn薄膜的光谱椭圆光谱法表征”的研究数据