机译:等离子体发射光谱及其与反应磁控溅射沉积的氮化硅薄膜折射率的关系
Univ Nacl Autonoma Mexico CONACYT Ctr Nanociencias &
Nanotecnol Apartado Postal 14 Ensenada 22800 Baja California Mexico;
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reactive DC magnetron sputtering; ellipsometric-spectroscopy; plasma spectroscopy; silicon nitride;
机译:等离子体发射光谱及其与反应磁控溅射沉积的氮化硅薄膜折射率的关系
机译:反应磁控溅射沉积氮化铜薄膜的场发射特性
机译:低温下通过反应溅射和等离子增强CVD沉积的氮化硅薄膜的特性
机译:直流脉冲反应磁控溅射沉积氮化硅薄膜
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:反应磁控溅射沉积TiO2薄膜的光催化性能的途径
机译:反应性射频磁控溅射沉积氮化碳薄膜的X射线光电子能谱和拉曼光谱研究