超高濃度オゾンガスによるノボラックレジストのアッシング

摘要

微細加工プロセスで利相される酸素プラズマアッシング法は，高いレジスト除去効果と良好な反応rn制御件により広く使用されているが，微細化の進展に伴ってレジストの下層に与えるダメージが問題となっていrnる．ダメージの少ない方法として，オゾンガスを用いた方法があり，本論文では，オゾンガスを濃縮し従来利用rnできなかった100%近い高濃度にするオゾン発生装置を用い，レジスト除去に適用した．その結果，高濃度オゾrnンガスを用いることにより，従来の無声放電式オゾナイザによるオゾンガスの場合（約5体積%）と比較して，rnより速いレジストアッシング速度を得ることができ，400℃の処理では約2倍の値が得られた．オゾン濃度以rn外のレジスト分解反応を促進するパラメータとして，処理圧力と温度が大きく影響することが分かった．結果とrnして，400℃，3000Paのアッシング条件で，膜厚1．2μm　,プリベーク温度120℃のノボラックレジストを1rn分以内に除去できることを確認した．