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机译:通过键合Si岛(SBSI)分离的先进CMOS LSI应用
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Yokohama-shi, 226-8502 Japan;
silicon on insulator (SOI) wafer; patterned SOI; SiGe; selective etching; MOSFET;
机译:通过键合Si岛(SBSI)分离先进的CMOS LSI-SBSI工艺的SiGe层的选择性刻蚀研究
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机译:通过键合Si岛(SBST)进行的LSI应用分离
机译:通过“键合硅岛分离(SBSI)”方法制造SOI MOSFET
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