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【24h】

230nm帯AlGaN紫外LEDの高出力化

机译:高输出的230nm波段AlGaN UV LED

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摘要

波長210nin~350nm帯の紫外LED・LDは様々な研究グループで開発が進められている。しかし発光効率は低く、特に250nm以下の波長帯では報告例も少ない。我々はサファイア基板上で(In)AlGaN多重量子井戸を用いて、波長220~350nm帯の高効率紫外発光デバイスの実現を目線している。今回は1.6nm程度の幅の狭いAlGaN量子井戸を用いることにより、2.6nmの量子井戸の時に比べ約4倍発光強度が増大することを明らかにした。またAlN電子ブロック層を用いることにより電子のオーバーフローを抑制し、p層からの発光を抑えて量子井戸からの発光が増大することを明らかにした。これらの工夫により波長234nmにおいで出力0.4mW、外部量子効率0.034%、波長241nmにおいて出力1.13mW、外部量子効率0.084%を室温CW動作において実現した。%210-350 nm-band high-efficiency ultraviolet (UV) light-emitting diodes (LEDs) or laser diodes (LDs) are very attractive light sources for the application to sterilization, medical fields etc. In this study, we realized high-power operations of AlGaN multi-quantum well (MQW) LEDs on high quality AlN/sapphire templates. We obtained significant increase of the 220 nm-band emission from AlGaN MQW LEDs by reducing the quantum well thickness from 4 nm to 1.5 nm. We also introduced AlN electron blocking layer (EBL) in order to improve the electron injection efficiency by suppressing electron overflow. We revealed that the output power of the 250 nm-band AlGaN LEDs was markedly increased by introducing AlN EBL. We obtained output power of 0.4mW and the external quantum efficiency (EQE) of 0.034% from 234nm AlGaN-MQW LED under room temperature (RT) continuous wave (CW) operation.
机译:各个研究小组正在开发波长为210nin至350nm的紫外线LED和LD。但是,发光效率低,特别是在250nm以下的波段中的报道少。我们的目标是通过在蓝宝石衬底上使用(In)AlGaN多量子阱来实现在220至350 nm波长范围内的高效紫外发光器件。这次澄清了,与2.6nm量子阱的情况相比,使用具有约1.6nm的窄宽度的AlGaN量子阱使发射强度增加了约4倍。另外,明确了通过使用AlN电子阻挡层来抑制电子溢出,抑制了来自p层的发射,并且增加了来自量子阱的发射。有了这些想法,我们在室温CW操作中在234 nm的波长处实现了0.4 mW的输出,0.034%的外部量子效率,在241 nm的波长处实现了1.13 mW的输出以及0.084%的外部量子效率。 210-350 nm波段的高效紫外(UV)发光二极管(LED)或激光二极管(LD)是非常诱人的光源,可用于灭菌,医疗领域等。在这项研究中,我们实现了通过在高质量AlN /蓝宝石模板上进行AlGaN多量子阱(MQW)LED的功率操作,通过将量子阱厚度从4 nm减小到1.5 nm,我们显着增加了AlGaN MQW LED的220 nm波段发射。引入AlN电子阻挡层(EBL)以通过抑制电子溢出来提高电子注入效率,我们发现通过引入AlN EBL可以显着提高250 nm波段AlGaN LED的输出功率,获得0.4mW的输出功率在室温(RT)连续波(CW)操作下,234nm AlGaN-MQW LED的外部量子效率(EQE)为0.034%。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2008年第323期|p.71-76|共6页
  • 作者单位

    独立行政法人理化学研究所 〒351-0198埼玉県和光市広沢2-1,埼玉大学理工学研究科 〒338-8570埼玉県さいたま市下大久保255,独立行政法人科学技術振興機構、CREST 〒332-0012埼玉県川口市本町4-1-8;

    独立行政法人理化学研究所 〒351-0198埼玉県和光市広沢2-1,埼玉大学理工学研究科 〒338-8570埼玉県さいたま市下大久保255,独立行政法人科学技術振興機構、CREST 〒332-0012埼玉県川口市本町4-1-8;

    独立行政法人理化学研究所 〒351-0198埼玉県和光市広沢2-1,埼玉大学理工学研究科 〒338-8570埼玉県さいたま市下大久保255,独立行政法人科学技術振興機構、CREST 〒332-0012埼玉県川口市本町4-1-8;

    埼玉大学理工学研究科 〒338-8570埼玉県さいたま市下大久保255,独立行政法人科学技術振興機構、CREST 〒332-0012埼玉県川口市本町4-1-8;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    AlGaN; 紫外LED; MOCVD; 電子ブロック層;

    机译:AlGaN;紫外LED;MOCVD;电子ブロック层;

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