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AlGaN/GaNヘテロ構造における曲げ変形と2DEGのシミュレーション

机译:AlGaN / GaN异质结构中弯曲变形和2DEG的模拟。

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摘要

AlGaN/GaNヘテロ構造にMEMS技術(マイクロオリガミ)を適用し,界面に生じる二次元電子ガス(2DEG)の影響を調べた。本研究ではこの技術の基本的な構造を用い,有限要素法および有限差分法を用いることで以下の解析を行った。1.AIGaN/GaNヘテロ構造における格子歪みと曲げ変形,2.曲げ変形に伴うピエゾ分極の変化,3.ピエゾ分極の変化に伴う2DEGの変化。解析の結果,Al_(0.2)Ga_(0.8)Nの場合,2DEGが約37%減少することがわかった。この結果から,マイクロオリガミ技術を用いることで,従来の歪み技術の限界を超えて2DEGを制御できる可能性があることを示した。%We have examined the effect on a two-dimensional electron gas(2DEG) in AlGaN/GaN hetero structures by using the "micro-origami" method. In this study, lattice strain, bending deformation, and variations of piezoelectric charge as well as 2DEG density were analyzed for a basic cantilever of the bimetal structure. These simulations were performed by using the finite element method and the finite difference method. As a result, the 2DEG density at the Al_(0.2)Ga_(0.8)N/GaN hetero-interface was found to decrease approximately 37%. The result suggests that the 2DEG density is controllable in the micro-origami type of MEMS structures.
机译:我们将MEMS技术(微型折纸)应用于AlGaN / GaN异质结构,并研究了在界面处产生的二维电子气(2DEG)的影响。在这项研究中,使用该技术的基本结构以及有限元法和有限差分法进行了以下分析。 1。 AIGaN / GaN异质结构的晶格应变和弯曲变形; 2。弯曲变形引起的压电极化变化3。 2DEG随压电极化的变化而变化。分析的结果发现,在Al_(0.2)Ga_(0.8)N的情况下,2DEG降低了约37%。从该结果表明,有可能通过使用微折纸技术来控制2DEG,这超出了常规失真技术的极限。 %我们已经使用“微折纸”方法研究了对AlGaN / GaN异质结构中的二维电子气(2DEG)的影响,在这项研究中,晶格应变,弯曲变形,压电电荷的变化以及分析了双金属结构基本悬臂的2DEG密度,并通过有限元法和有限差分法进行了模拟,结果得出Al_(0.2)Ga_(0.8)N / GaN异质结处的2DEG密度界面约减少了37%。结果表明,在微折纸类型的MEMS结构中2DEG密度是可控的。

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