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ワイドセルピッチトレンチゲートFS-IGBTのターンオン特性に与えるフローティングpベースの影響

机译:浮动p基极对宽单元间距沟槽栅极FS-IGBT的导通特性的影响

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摘要

フローティングpべ-スを備えたワイドセルピッチトレンチゲートFS-IGBTのターンオンの特異な波形に着目し、TCADを用いてそのメカニズムとデバイス物理を明らかにした。フローティングpべ-スの電位Vfとその変化速度瓜矧dV/dtは、ターンオンの過渡特性を決める最も重要なパラメータであり、後者はフローティングpベースに出入りする複数の電流成分に支配されることを明らかにした。フローティングpベースに出入りする2つの電流成分-Condudion CumntとDisplacement Current-について、前者はトレンチ底部に一時的に形成される寄生pチャネルMOSFETと寄生pnpトランジスタ、後者はトレンチ右側面にてフローティングpべ-スーゲート間に形成されるゲート容量とフローティングpベースーn-ボディ間に形成される接合容量が担うことを明らかにした。%In the turn-on period of IGBTs under inductive load switching, collector voltage waveform characterized by medium-voltage hump followed by long tail is occasionally observed. Moreover, the waveform causing larger turn-on dissipation is remarkable in Trench-gate FS-IGBTs designed under Wide-cell-pitch concept with Floating p-base. In order to understand the lossy waveform, transient behavior of the Floating p-base in Wide-cell-pitch Trench-gate FS-IGBT is analyzed quantitatively. Consequently, device physics of the FS-IGBT during turn-on is interpreted well by the proposed equivalent circuit dynamically changed with parasitic p-channel MOSFET and/or pnp transistor that work temporarily.
机译:我们重点研究了具有浮置p型基极的宽单元节距沟槽栅极FS-IGBT的导通独特波形,并使用TCAD阐明了其机理和器件物理特性。浮动p基电位Vf及其尿液变化率dV / dt是决定接通瞬态特性的最重要参数,后者由进入和离开浮动p基的多个电流分量控制。显露。关于进入和离开浮动p基极的两个电流分量-导电累积和位移电流-,前者是在沟槽底部临时形成的寄生p沟道MOSFET和寄生pnp晶体管,而后者是在沟槽右侧的浮动p型。可以弄清,在栅极之间形成的栅极电容和在浮置p基极与n体之间形成的结电容起着作用。 %在电感性负载开关下的IGBT导通期间,偶尔会观察到具有中压驼峰和长尾巴的集电极电压波形,而且在Trench-gate FS-IGBT中,引起更大导通损耗的波形非常明显为了了解损耗波形,定量分析了宽单元节距Trench Gate FS-IGBT中的浮动p型基极的瞬态行为。通过使用寄生p沟道MOSFET和/或pnp晶体管(暂时工作)动态改变的拟议等效电路,可以很好地解释FS-IGBT导通期间的特性。

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