ビットパターン媒体用1Tbit/in~2級Co-Ptドットアレイの作製

摘要

We fabricated Co-Pt magnetic dot arrays using an electron beam writing and a low-energy ion etching in order to prevent from the deterioration of the magnetic properties. By comparing the results of X-ray magnetic circular dichroism measurement and micro magnetic simulation, it was found that the etching using low-energy ions cause little damage on not only the magnetization but also the anisotropy field. These results demonstrate the effectiveness of the etching using low-energy ions for realization of bit-patterned media with an areal density of 1 Tbit/in2. Furthermore, the magnetic isolation between the dots in the magnetic dot array with the dot pitch of 30 nm was confirmed by SEM and MFM observations.%ビットパターン媒体作製に関して，イオンエッチング時に生じる磁気的な加工ダメージを軽減するために，低エネルギーイオンによるエッチングプロセスの有効性を検討した．電子線描画と低エネルギーイオンエシチングを用いてCo-Pt磁性ドットを作製し，磁気特性評価を行った．実験結果とシミュレーション結果の比較から，飽和磁化や垂直磁気異方性の劣化はほとんどないことが明らかになり，1Tbit/in~2のBPMを実現する上で，低エネルギーイオンエッチングが有効であることが示された．さらに，30nmピッチのCo-Pt磁性ドットアレイのSEM観察とMFM観察から，磁性ドットが規則配列し，磁気的に孤立していることを確認した．