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顕微光学系によるLED用結晶の2波長励起フォトルミネッセンス評価

机译:显微光学系统评估LED晶体的两波长激发光致发光

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摘要

バンド端エネルギーより低エネルギーの励起(BGE)光で禁制帯内準位を選択励起し、バンド間励起(AGE)光で生じるフォトルミネッセンス強度を変調させて禁制帯内準位を評価することができる。顕微光学系を用いたこの手法により、MOCVD成長In_(0.15)Ga_(0.85)N/In_(0.02)Ga_(0.98)N量子井戸結晶の評価を行った。BGEエネルギーl.95eVで禁制帯内準位を検出し、そのAGE強度、BGE強度、温度依存性を測定した。障壁層、井戸層へのSiドープにより禁制帯内準位密度が低下、すなわち結晶性が改善する点が示された。%Quantitative characterization of nonradiative recombination centers becomes possible when adding the below-gap excitation (BGE) with an above-gap excitation (AGE), and observing the intensity change of photoluminescence due to the BGE: The BGE selects a specific pair of below-gap states and modulates a nonradiative recombination rate through them. We studied MOCVD-grown In_(0.15)Ga_(0.85)N/In_(0.02)Ga_(0.98)N quantum well structures by using a microscopic optical system, and detected below-gap states at the BGE energy of 1.95eV, including AGE intensity-, BGE intensity- and temperature-dependences. A moderate Si-doping in both barrier and well layers was shown to improve the crystal qual 1 ity.
机译:禁带能级可以通过用能量低于带边缘能量的激发光(BGE)选择性地激发禁带能级,并调制由带间激发(AGE)光产生的光致发光强度来评估。 ..通过该方法使用显微镜光学系统评估了MOCVD生长的In_(0.15)Ga_(0.85)N / In_(0.02)Ga_(0.98)N量子阱晶体。在BGE能量为1.95eV时检测到禁带中的水平,并测量其AGE强度,BGE强度和温度依赖性。结果表明,势垒层和阱层中的Si掺杂降低了禁带中的能级密度,即提高了结晶度。当将带隙以下激发(BGE)与带隙以上激发(AGE)相加,并观察由于BGE引起的光致发光强度变化时,非辐射重组中心的定量表征变得可能:BGE选择以下一对特定的-间隙研究并通过它们调节非辐射复合率。我们使用显微镜光学系统研究了MOCVD生长的In_(0.15)Ga_(0.85)N / In_(0.02)Ga_(0.98)N量子阱结构,并检测了低于间隙在1.95eV的BGE能量下,包括AGE强度,BGE强度和温度依赖性,势垒状态都得到了证明。在势垒层和势阱层中适度地进行Si掺杂可以改善晶体质量1。

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