原子レベルでの半導体単結晶表面の湿式エッチング過程

摘要

Electrochemical etching processes of semiconductors have been investigated with atomic levels. Using electrochemical methods, it is possible to control chemical reactions at semiconductor surfaces more precisely than conventional chemical etching. It is expected that such techniques are important for preparation of ultra-flat surfaces and ultra-fine patterns.%半導体表面の原子レベルでの湿式エッチング過程を検討している。特に、半導体電極の電極電位を精密制御した上での電気化学エッチング過程は、化学エッチングに比べ、その反応の制御性は、非常に高い。超平坦面の製造、あるいは、原子レベルでの超微細加工を可能にするものと期待される。