RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜生成への石英円筒の効果

摘要

The LiMn_2O_4 films for Li secondary batteries have been prepared by a RF magnetron sputtering method. ThernLiMn_2O_4 powder was used as a target material. This research was aimed at preventing oxidation of target during the reactive sputtering process. A quartz tube was inserted between shutter and target. The deposition rate, XRD were investigated. It was found that the deposition rate has increased because of using a quartz tube. It was also found that the film has a crystallinity of LiMn_2O_4 after 30 min deposition.%RF マグネトロンスパッタリング法により、Li 二次電池正極用のLiMn_2O_4 薄膜を生成している。ターゲットには、LiMn_2O_4 粉末を用い、連続して複数回のスパッタを行った。本研究は、反応性スパッタリング中での、ターゲットの酸化防止法として考案された。ターゲットとシャッター間に石英円筒を設置し、蒸着速度の変化、薄膜結晶性を調べた。石英円筒を使用することにより蒸着速度が増加した。また、XRD 測定を行った結果、30分の蒸着でLiMn_2O_4薄膜が生成できた。