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相変化材料を用いた導波路型光ゲートスイッチにおけるスイッチング動作

机译:使用相变材料的波导型光闸开关的开关特性

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摘要

Two types of optical gate switch using phase-change material (PCM) were fabricated. The one switch had a 1-μm-thick PCM (Ge_2Sb_2Te_5) layer and the other one had a 20-nm-thick PCM layer. We successfully demonstrated switching by laser pulse irradiation for the first time. As for the switch with a 1-um-thick PCM layer, 'ON' to 'OFF' switching with an extinction ratio of more than 12.5 dB in the wavelength range from 1525 nm to 1600 nm was observed. The switch with a 20-nm-thick PCM layer was operated two cycles, 'ON' to 'OFF' to 'ON. The changes of output power were 14.3 dB ('ON' to 'OFF' 1st), 7.7 dB ('OFF' to 'ON' 1st), 7.4 dB ('ON to 'OFF' 2nd), and 4.4 dB ('OFF' to 'ON' 2nd), respectively. We used a laser pulse with a width of 453 ns and a peak power of 63 mW for crystallization and with a width of 10 ns and a peak power of 150 mW for amorphization. The wavelength of laser pulses was 660 nm.%膜厚が1μmと20nmの相変化材料(Ge_2Sb_2Tb_5)薄膜を有する光ゲートスイッチを設計・試作し,光パルス照射によるスイッチング動作に初めて成功した.厚膜型ゲートスイッチでは,波長1525nmから1600nmにおいてONからOFFへの一方向スイッチングを観測し,12.5dB以上の消光比を得た.薄膜型ゲートスイッチでは,二回のON/OFF/ON動作を観測し,出力光強度変化は一回目のON/OFF/ONにおいて14.3dB及び7.7dB,二回目のON/OFF/ONにおいて7.4dB及び4.4dBであった.結晶化光パルスはパルス幅453ns,ピークパワー63mW,アモルファス化光パルスはパルス幅10ns,ピークパワー150mWであり,それらの波長は660nmである.
机译:制作了两种使用相变材料(PCM)的光闸开关。一个开关具有1μm厚的PCM(Ge_2Sb_2Te_5)层,另一开关具有20nm厚的PCM层。我们首次成功地演示了通过激光脉冲照射进行的切换。对于具有1um厚PCM层的开关,在1525 nm至1600 nm的波长范围内观察到消光比大于12.5 dB的“ ON”至“ OFF”开关。具有20 nm厚PCM层的开关操作了两个周期,即“ ON”到“ OFF”到“ ON”。输出功率的变化分别为14.3 dB(第一次从'ON'到'OFF'),7.7 dB(第一次从'OFF'到'ON'),7.4 dB(第二次'ON到'OFF')和4.4 dB('OFF' '至'ON'2nd)。我们使用宽度为453 ns,峰值功率为63 mW的激光脉冲进行结晶,并使用宽度为10 ns且峰值功率为150 mW的激光脉冲进行非晶化。激光脉冲的波长为660 nm。%膜厚が1μmと20nmの相変化材料(Ge_2Sb_2Tb_5)スイッチでは,波长1525nmから1600nmにおいてONからOFFへの一方向スイッチングを観测し,12.5dB以上の消光比を得た。薄膜型ゲートスイッチでは,二回のON / OFF / ON动作を観测し,出力光强度変化は一回目のON / OFF / ONにおいて14.3dB及び7.7dB,二回目のON / OFF / ONにおいて7.4dB及び4.4dBであった。结晶化光パルスはパルス幅453ns,ピークパワー63mW,アモルファス化光パルスはパルス幅10ns,ピークパワー150mWであり,それらの波长は660nmである。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2010年第181期|p.127-130|共4页
  • 作者单位

    慶應義塾大学大学院理工学研究科 〒223-8522 神奈川県横浜市港北区日吉 3-14-1;

    産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター 〒305-8568 茨城県つくば市梅園 1-1-1;

    産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター 〒305-8568 茨城県つくば市梅園 1-1-1;

    産業技術総合研究所光技術研究部門 〒305-8562 茨城県つくば市東 1-1-1;

    産業技術総合研究所光技術研究部門 〒305-8562 茨城県つくば市東 1-1-1;

    産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター 〒305-8568 茨城県つくば市梅園 1-1-1;

    産業技術総合研究所ネットワークフォトニクス研究センター 〒305-8568 茨城県つくば市梅園 1-1-1;

    慶應義塾大学大学院理工学研究科 〒223-8522 神奈川県横浜市港北区日吉 3-14-1;

    慶應義塾大学大学院理工学研究科 〒223-8522 神奈川県横浜市港北区日吉 3-14-1;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    相変化材料; Si細線導波路; 光スイッチ;

    机译:相变材料;硅线波导;光开关;

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